Typowe procesy nanotechnologiczne i producenci układów scalonych RFID

Technologia RFID (Radio Frequency Identification) stała się nieodzowną częścią nowoczesnego przemysłu produkcyjnego i logistycznego. Chip RFID jest jednym z kluczowych komponentów do wdrożenia technologii RFID. Może przechowywać i przesyłać dane, zapewniając wykonalne rozwiązania dla wielu scenariuszy zastosowań. W tym artykule przyjrzymy się powszechnym procesom produkcyjnym i producentom chipów RFID.

Obecnie na rynku powszechne skale procesów chipów RFID nm obejmują głównie:

Proces 180 nm, proces 110 nm, proces 90 nm, proces 65 nm.

Proces 180 nm. Proces 180 nm jest obecnie najszerzej stosowaną skalą procesu chipów RFID i nadaje się do chipów RFID o niskiej częstotliwości (LF), wysokiej częstotliwości (HF) i niektórych UHF (Ultra High-Frequency). W porównaniu z procesem 350 nm, proces 180 nm ma większą integrację, mniejszy rozmiar, większą pojemność chipa, bardziej dojrzałą kontrolę procesu i bardziej stabilną wydajność.

Proces 110 nm. Proces 110 nm był jedną z głównych skal procesu chipów RFID w ostatnich latach i może być stosowany do produkcji chipów RFID o wysokiej częstotliwości (HF) i UHF (Ultra High-Frequency). Proces ten charakteryzuje się mniejszym rozmiarem, niższym zużyciem energii, większą prędkością, większą pojemnością oraz wyższym bezpieczeństwem i stabilnością. Jednak ze względu na wyższe koszty produkcji cena jego chipów odpowiednio wzrośnie w porównaniu z chipami procesu 180 nm.

Proces 90 nm. Proces 90 nm jest obecnie jedną z zaawansowanych skal procesów w produkcji chipów RFID i jest głównie używany do produkcji wysokiej klasy chipów RFID UHF (Ultra High-Frequency). Chipy produkowane w tym procesie mają wyższą integrację, mniejszy rozmiar, większą pojemność chipa i prędkość, mogą zapewnić silniejsze bezpieczeństwo i ochronę prywatności oraz mogą być stosowane w większej liczbie scenariuszy zastosowań.

Proces 65 nm. Proces 65 nm jest najnowszą skalą procesów dla chipów RFID i jest zaawansowaną technologią procesową. W porównaniu z procesami 110 nm i 90 nm, proces 65 nm ma mniejszy rozmiar, większą prędkość, niższe zużycie energii i wyższą integrację. Może zapewnić więcej funkcji i bogatsze scenariusze zastosowań w inteligentnym transporcie i logistyce. Ma szerokie perspektywy zastosowania w handlu detalicznym i innych dziedzinach.

Więc, jaki rodzaj maszyny fotolitograficznej jest używany do produkcji chipów RFID? Chipy RFID nie mają wysokich wymagań co do zaawansowanych procesów nanometrowych, ponieważ ich funkcje są proste. W przeciwieństwie do chipów o wysokiej precyzji używanych w kartach graficznych i telefonach komórkowych, są one stosunkowo prostymi typami chipów. Dlatego maszyny litograficzne powszechnie używane w produkcji chipów RFID to głównie tradycyjne maszyny litograficzne NL i maszyny litograficzne DUV. Tradycyjna maszyna litograficzna NL jest maszyną litograficzną powszechnie używaną w produkcji płytek półprzewodnikowych. Wykorzystuje źródło światła ultrafioletowego do oświetlenia płytki półprzewodnikowej w celu utworzenia specyficznego dla chipa wzoru fotorezystu przez część przepuszczającą światło w fotomasce. Ten rodzaj maszyny litograficznej nadaje się do produkcji chipów o większych rozmiarach i niskiej rozdzielczości. Maszyna litograficzna DUV (Deep Ultraviolet Light) wykorzystuje światło o krótszej długości fali, co zapewnia wyższą rozdzielczość i mniejszy rozmiar obiektów. Maszyny litograficzne DUV mogą być używane do produkcji układów RFID o wysokiej gęstości, wysokiej precyzji i wysokiej niezawodności.

wafer

Obecnie na rynku jest wielu producentów układów RFID.

NXP Semiconductor: NXP Semiconductor jest jednym z wiodących na świecie dostawców układów RFID, a firma ma duży udział w rynku. Układy RFID firmy NXP obejmują układy o niskiej częstotliwości (LF), wysokiej częstotliwości (HF) i ultra wysokiej częstotliwości (UHF). Wcześniejsze skale procesów wynosiły 350 nm i 180 nm, a obecnie główne skale produkcji firmy to 90 nm i 65 nm. Specyfikacje i funkcje układów scalonych są bardzo kompleksowe, obejmując układy RFID o niskiej częstotliwości (LF), wysokiej częstotliwości (HF) i ultrawysokiej częstotliwości (UHF), odpowiednie do różnych scenariuszy zastosowań.

Texas Instruments (TI): Texas Instruments jest wiodącą firmą zajmującą się projektowaniem i produkcją półprzewodników, zajmującą ważną pozycję w dziedzinie układów RFID. Układy RFID produkowane przez TI obejmują układy o niskiej częstotliwości (LF), wysokiej częstotliwości (HF) i ultrawysokiej częstotliwości (UHF) i obejmują wiele hybrydowych rozwiązań aPlikacyjnych. Początkowa skala procesu wynosi 180 nm, a obecne główne skale procesu to 90 nm i 65 nm.

Litografia

Impinj: Impinj to firma specjalizująca się w dostarczaniu rozwiązań UHF RFID, a także lider na rynku chipów UHF. Chipy RFID firmy Impinj mogą być stosowane w projektach obejmujących infrastrukturę na dużą skalę.e, łańcuch dostaw, Logistyka i inne dziedziny. Impinj wykorzystuje głównie technologię CMOS, a skala jego procesu to głównie proces 130 nm i proces 90 nm.

Fudan Microelectronics. Jest to jedna z dobrze znanych firm zajmujących się projektowaniem półprzewodników w Chinach, skupiająca się na badaniach i rozwoju, projektowaniu i produkcji mikroprocesorów i systemów mikroelektronicznych. Firma zgromadziła bogatą technologię produkcji półprzewodników i doświadczenie przez prawie 30 lat. Obecnie główne procesy nm stosowane przez Fudan Microelectronics w układach RFID to 65 nm i 130 nm. Jako zaawansowane technologie procesowe, obie skale procesowe mogą zapewnić takie korzyści, jak wyższa integracja, mniejszy rozmiar, szybsza prędkość robocza, niższe zużycie energii i wyższa niezawodność.

Wraz z ciągłym rozwojem technologii procesowej coraz więcej chipów RFID zaczyna korzystać z zaawansowanego procesu 65 nm, który może zapewnić więcej funkcji i szerszy zakres scenariuszy zastosowań. Podobnie firmy produkujące chipy stale przechodzą na bardziej zaawansowane skale procesów, aby stale poprawiać wydajność i funkcjonalność chipów.